ГАЗОВЫЕ СИСТЕМЫ TERATECH
Teratech это молодая быстроразвивающаяся компания. Основной областью деятельности которой является разработка и производство
систем подачи, регулировки, смешивания,
очистки и дозирования газов для различных приложений – прежде всего для полупроводниковой индустрии, производства плоскопанельных дисплеев, экологически чистой энергетики и других отраслей.
Начав свою деятельность в 2000 году, в настоящий момент компания Teratech занимает лидирующие позиции в области газовых систем на рынках Южной Кореи и Юго-восточной Азии.
Потребителями Teratech являются крупнейшие полупроводниковые компании в регионе – Samsung, Hynix, DongBu в Южной Корее, заводы Intel, CSMC в Китае, «фабы» UMC, NEXPOWER на Тайване и другие. Кроме того, Teratech поставляет газовые системы компаниям, занимающимся экологически чистой (водородной) энергетикой – Dynetek Industries, ZTEK, PPI и другим.
Компания Teratech исповедует индивидуальный подход к решению задач потребителя, максимально полно учитывая его потребности и особенности, вместе с тем используя собственные стандартизированные наработки. Это позволяет, с одной стороны, строить самые сложные газовые системы в кратчайшие сроки, а с другой – максимально полно учитывать запросы и пожелания потребителя.
ГАЗОВЫЕ ШКАФЫ
■ Подача чистых газов и их смесей с заданными потоками, которые могут быть изменены в течение процесса как по заранее введенной программе, так и по внешнему сигналу;
■ Полная автоматизация процесса подачи чистых газов и его удаленный контроль;
■ Сколь угодно разветвленная структура – допустимо большое число смешиваемых (подаваемых) компонентов;
■ Устойчивая и длительная работа с агрессивными и взрывоопасными газами;
■ Возможность разнесенной и единой компоновки – баллоны с газом могут быть установлены внутри шкафа или удалены от системы распределения и контроля;
■ Возможность встраивания системы очистки;
■ Соответствие самым жестким нормам безопасности;
■ Сборка газовых систем ведется в чистых комнатах (класс чистоты 10-100);
■ Компоновка газовых систем разрабатывается с учетом максимально легкого доступа для обслуживания.
Рис.1 Газовые шкафы.
СИСТЕМЫ ОЧИСТКИ
 ■ Возможность использования различных методов очистки газов – каталитический, адсорбционный, криогенный, геттерный и их комбинации, наилучшим образом соответствующие типу газа и необходимым расходу и степени чистоты;
■ Полная автоматизация процесса и удаленный контроль;
■ Скорость очистки до 400 норм. м 3/ч (в зависимости от газа и метода очистки).
СИСТЕМЫ ОСУШЕНИЯ
■ Адсорбционные осушители могут использоваться как для подаваемого газа, так и для газов, полученных в технологическом процессе;
■ Рабочие давления для осушки подаваемого газа – 3-17 бар, для полученных в техпроцессе газов – менее 1 бара;
■ Потоки – от 500 до 15000 норм. м 3/ч.
СИСТЕМА ПЛАЗМЕННОЙ ОЧИСТКИ ГАЗОВЫХ И ВАКУУМНЫХ ТРАКТОВ ПОСЛЕ «ГРЯЗНЫХ» ПРОЦЕССОВ
Рис.2 Системы очистки газов.
■ Снижает стоимость эксплуатации и обслуживания средств откачки;
■ Снижает вероятность появления в системе твердых частиц.
| 
