АКТАН. Вся вакуумная техника. Термовакуумное оборудование. Вакуумные напылительные системы. Криогенная и криовакуумная техника.
English
О компании АКТАН
Каталог оборудования
Видео компании АКТАН
Запрос информации
Контакты АКТАН
Каталог вакуумной техники, напылительного оборудования, вакуумной арматуры,  вакуумных печей, криовакуумной техники, плазменной техники, оборудования для получения и контроля тонких плёнок, криогенное оборудование


АКТАН. Вся вакуумная техника. Термовакуумное оборудование. Вакуумные напылительные системы. Криогенная и криовакуумная техника.

оборудование и компоненты для вакуумных напылительных и плазменных технологий 

Компания АКТАН поставляет универсальные вакуумные напылительные установки системы для нанесения сверхтонких пленок металлов и диэлектриков.

Компания АКТАН поставляет напылительные системы для нанесения сверхтонких пленок металлов и диэлектриков. Данные технологии и плёнки широко используются для научных целей и во многих отраслях промышленности: оптической, полупроводниковой, при производстве медицинских изделий, дисплеев, солнечных батарей, для упрочнения и улучшения свойств инструментов. При производстве сверхтонких пленок, толщина которых может быть всего несколько атомных слоев, необходимо добиваться их очень высокой чистоты, что требует проведения процессов термического испарения в глубоком вакууме. Для получения свойств с заранее заданными свойствами компания АКТАН предложит наиболее подходящий процесс и оптимальную установку, так как является компанией с более чем сорокалетним опытом в производстве вакуумных напылительных систем.
Потребуется ли Вам установка для нанесения тонких пленок с помощью резистивного или магнетронного испарения, с использованием электронно-лучевого испарителя или магнетронного испарения с дополнительной обработкой поверхности ионным пучком, комбинированная установка с несколькими типами испарения (распыления), обратитесь к нам и наши специалисты предложат надежную вакуумную напылительную установку с апробированной технологией.
 

НАСТОЛЬНЫЕ ВАКУУМНЫЕ УСТАНОВКИ СЕРИЙ DESK 
НАСТОЛЬНЫЕ ВАКУУМНЫЕ УСТАНОВКИ СЕРИЙ DESK. Вакуумные настольные установки холодного распыления. Магнетронное напыление тонких токопроводящих слоев.Вакуумная установка холодного распыления DESK V предназначена для магнетронного напыления тонких токопроводящих слоёв на образцы перед их исследованием на растровых электронных микроскопах, с предварительной очисткой поверхности с помощью травления. Полностью автоматические, очень надежные и удобные в работе, данные настольные (занимаемая площадь 65х45 см) магнетронные напылительные установки используются во многих научных лабораториях во всем мире. Установка за 3 мин. обеспечивает напыление проводящего слоя толщиной 100А, имеющего мелкозернистую структуру. Производятся две модели магнетронных напылительных установок серии DESK V – без турбомолекулярного насоса (со стеклянной камерой) и с ТМН (с камерой из нержавеющей стали).

Вакуумная магнетронная установка DESK-PRO предназначена для магнетронного распыления металлов и диэлектриков в научных целях. Отличительной особенностью установки является её компактность - занимаемая площадь составляет всего 79х80 см.

Далее о настольных вакуумных напылительных системах DESK V.
Далее о настольных вакуумных напылительных системах DESK-PRO.

 

  • Explorer® – универсальная автоматическая вакуумная установка нанесения тонких пленокExplorer® УНИВЕРСАЛЬНАЯ АВТОМАТИЧЕСКАЯ ВАКУУМНАЯ УСТАНОВКА НАНЕСЕНИЯ ТОНКИХ ПЛЕНОК МЕТОДАМИ:
    ► Электронно-лучевого напыления
    ► Резистивного испарения
    ► Магнетронного напыления
    ► Плазмохимического осаждения из газовой фазы (PECVD)
    ► Ионного распыления (Ion Plating)
    ► Напыления с ассистированием ионным пучком (Ion Assisted Deposition)

«Рабочей лошадкой» и стандартным выбором для научно-исследовательских работ в области нанесения тонких плёнок вакуумными методами является установка Explorer®. Данная вакуумная напылительная установка может быть сконфигурирована для всех вышеперечисленных методов напыления или их различных комбинаций. Установка Explorer отличается очень высокой надежностью, так как была разработана для производства пилотных образцов продукции и для научно-исследовательских работ в самых высокотехнологичных отраслях промышленности: полупроводниковой, оптической, а также для изучения трибологических и других свойств поверхности.
Общая информация по вакуумным напылительным установкам Explorer.
 

ВАКУУМНАЯ НАПЫЛИТЕЛЬНАЯ УСТАНОВКА Explorer® ДЛЯ МАГНЕТРОННОГО НАПЫЛЕНИЯВАКУУМНАЯ НАПЫЛИТЕЛЬНАЯ УСТАНОВКА Explorer® ДЛЯ МАГНЕТРОННОГО НАПЫЛЕНИЯ
Когда вы выбираете вакуумную магнетронную напылительную установку Explorer компании Denton, вы получаете доступ к огромному опыту многих лет по использованию технологии магнетронного напыления и производству вакуумных магнетронных напылительных установок.
Возможные конфигурации магнетронного узла:
► 1, 2 или 3 катода
► Катоды размером 2”, 3” или 4” (50, 75 или 100 мм)
► Улучшенная конструкция для распыления толстых магнитных мишеней
► Возможность регулировки угла наклона магнетрона с целью изменения угла соударения между направлением распыляемых атомов и подложкой.
Далее о напылительных установках для магнетронного напыления…  

 

ВАКУУМНАЯ НАПЫЛИТЕЛЬНАЯ УСТАНОВКА Explorer® ДЛЯ ЭЛЕКТРОННО-ЛУЧЕВОГО И (ИЛИ) РЕЗИСТИВНОГО ИСПАРЕНИЯ ВАКУУМНАЯ НАПЫЛИТЕЛЬНАЯ УСТАНОВКА Explorer® ДЛЯ ЭЛЕКТРОННО-ЛУЧЕВОГО И (ИЛИ) РЕЗИСТИВНОГО ИСПАРЕНИЯ
Отдел технологических решений более сорока лет изучает процессы нанесения тонких плёнок металлов и оксидов методом термического испарения материалов. Решая задачи для новых приложений, постоянно улучшается базовая конфигурация напылительной установки Explorer, добавляются новые опции, расширяется и улучшается функциональность напылительной установки. Вакуумная напылительная установка Explorer предлагает на выбор несколько типоразмеров вакуумной камеры и опций для напыления тонких плёнок.
 Далее о вакуумных напылительных установках для электронно-лучевого и резистивного испарения… 

ВАКУУМНЫЕ СИСТЕМЫ МАГНЕТРОННОГО НАПЫЛЕНИЯ DISCOVERY® ВАКУУМНЫЕ СИСТЕМЫ МАГНЕТРОННОГО НАПЫЛЕНИЯ DISCOVERY®
Серия Discovery магнетронных напылительных установок представляет собой масштабируемую систему как исследовательского, так и промышленного назначения. Используя уникальную систему ориентации образцов и источников, магнетронные источники напыления небольшого размера, установки Discovery обеспечивают качественное напыление на образцы больших размеров, достигая при этом высочайшую степень неоднородности. Все вакуумные магнетронные напылительные системы Discovery могут поставляться в мульти катодной конфигурации и с большим количеством опций, что обеспечивает удовлетворяющее всем требованиям заказчика напыление тонких плёнок на подложки размером до 75 см.
Ключевые особенности:
► вакуумная камера из нержавеющей стали с большим количеством дополнительных портов и вакуумных окон
► полностью автоматическая шлюзовая камера для загрузки подложек до 200 мм (Discovery 635) или 750 мм (Discovery 785)
► возможность встраивания в чистые помещения
Далее о вакуумных системах магнетронного напыления Discovery...  
 

ВАКУУМНАЯ НАПЫЛИТЕЛЬНАЯ УСТАНОВКА СЕРИИ Discovery® HDG ДЛЯ ИОННО-ЛУЧЕВОГО НАПЫЛЕНИЯ (или напыления с ассистированием ионным пучком) И ТРАВЛЕНИЯВАКУУМНАЯ НАПЫЛИТЕЛЬНАЯ УСТАНОВКА СЕРИИ Discovery® HDG ДЛЯ ИОННО-ЛУЧЕВОГО НАПЫЛЕНИЯ (или напыления с ассистированием ионным пучком) И ТРАВЛЕНИЯ
Система вакуумного напыления Discovery® HDG для травления и распыления мишени ионным пучком обладает всеми необходимыми опциями и требуемыми параметрами, предъявляемыми к вакуумным установкам данного типа, и высокой гибкостью, позволяющей решать задачи для многих областей науки. Данная вакуумная установка предлагает значительно больше опций и обеспечивает лучшие параметры напыляемых пленок по сравнению с конкурирующими системам.
Преимущества ионно-лучевого напыления:
► более высокая энергия напыляемых ионов по сравнению с энергией атомов при магнетронном напылении приводит к образованию плёнки с большей плотностью.
Далее о вакуумных напылительных установках серии Discovery HDG для ионно-лучевого напыления (или напыления с ассистированием ионным пучком) и травления.  
ВАКУУМНАЯ УСТАНОВКА РЕЗИСТИВНОГО НАПЫЛЕНИЯ СЕРИИ DV-502B
 

ВАКУУМНАЯ УСТАНОВКА РЕЗИСТИВНОГО НАПЫЛЕНИЯ СЕРИИ DV-502B
Установки резистивного напыления серии DV-502B являются новой, улучшенной версией хорошо зарекомендовавшей себя линейки напылительных установок DV-502. С 1964 года тысячи данных установок инсталлированы в университетах и исследовательских центрах по всему миру. Блок питания резистивного источника испарения мощностью 1кВА позволяет испарять большинство материалов, используемых для подготовки образов для электронной микроскопии. Опционно поставляемый блок питания на 2 кВА сделает данную напылительную установку идеальным выбором для большинства научных исследований, где необходимо использовать резистивное испарение.
Далее о вакуумных установках резистивного напыления...  

 

INTEGRITY® – УСТАНОВКА ВАКУУМНОГО НАНЕСЕНИЯ ТОНКИХ ПЛЕНОК ЭЛЕКТРОННО-ЛУЧЕВЫМ МЕТОДОМ ДЛЯ ОПТИКИINTEGRITY® – УСТАНОВКА ВАКУУМНОГО НАНЕСЕНИЯ ТОНКИХ ПЛЕНОК ЭЛЕКТРОННО-ЛУЧЕВЫМ МЕТОДОМ ДЛЯ ОПТИКИ
Установка серии Integrity® является флагманом для нанесения оптический покрытий. Размер камер в этих установках варьируется от 65 см до 2 м. Подавляющее большинство вакуумных напылительных систем серии Integrity® поставляется с источниками для напыления с ассистированием ионным пучком и оптическими мониторами, что позволяет их применять в самых ответственных приложениях.
 Далее об установках вакуумного нанесения тонких пленок электронно-лучевым методом...


VOYAGER® – УНИВЕРСАЛЬНАЯ ВАКУУМНАЯ СИСТЕМА НАНЕСЕНИЯ ТОНКИХ ПЛЕНОК МЕТОДОМ ПЛАЗМЕННО-ХИМИЧЕСКОГО ОСАЖДЕНИЯ (PECVD) VOYAGER® – УНИВЕРСАЛЬНАЯ ВАКУУМНАЯ СИСТЕМА НАНЕСЕНИЯ ТОНКИХ ПЛЕНОК МЕТОДОМ ПЛАЗМЕННО-ХИМИЧЕСКОГО ОСАЖДЕНИЯ (PECVD)
Универсальная установка плазмохимического осаждения серии Voyager предлагает большие возможности и гибкость для получения тонких плёнок, при этом процесс проходит в низкотемпературном режиме, а плёнка образуется с высокой степенью однородности. Заслуживающими особого внимания преимуществами PECVD процесса является то, что источник напыляемого материала практически неограничен, а также возможность получать заранее определенное значение напряжения в плёнке.
Установленные процессы:
► SiO2
► SiN
► TiO2
► DLC (Diamond Like Carbon)
Далее о вакуумной системе получения тонких плёнок методом плазменно-химического осаждения  PECVD...  

 

 


  Многоканальный ТЕЛ./ФАКС:
 
    +7(495) 228 0975
   
Copyright © 2004-2011 АКТАН  
Использование материалов сайта без разрешения ООО«АКТАН» не допускается.
Rambler's Top100