АКТАН. Вся вакуумная техника. Термовакуумное оборудование. Вакуумные напылительные системы. Криогенная и криовакуумная техника.
English
О компании АКТАН
Каталог оборудования
Видео компании АКТАН
Запрос информации
Контакты АКТАН
Каталог вакуумной техники, напылительного оборудования, вакуумной арматуры,  вакуумных печей, криовакуумной техники, плазменной техники, оборудования для получения и контроля тонких плёнок, криогенное оборудование


АКТАН. Вся вакуумная техника. Термовакуумное оборудование. Вакуумные напылительные системы. Криогенная и криовакуумная техника.

оборудование и компоненты для вакуумных напылительных и плазменных технологий 

ВАКУУМНЫЕ НАПЫЛИТЕЛЬНЫЕ УСТАНОВКИ И УСТАНОВКИ ПЛАЗМО-ХИМИЧЕСКОГО ОСАЖДЕНИЯ ADVAVAC

Имея большой опыт разработки и производства напылительных систем, компания предлагает как серийно-изготавливаемые установки с большим набором предлагаемых опций, так и установки под заказ. Серия VS (Vacuum Small: VSM (магнетронное распыление), VSE (e-beam, электронно-лучевое испарение), VSR (Resistive, термо-резистивное испарение) – недорогие компактные установки, изготавливаемые в настольном или в напольном варианте (в напольном варианте стойка управления находится под вакуумной камерой).

Все вакуумные напылительные системы и установки плазмо-химического осаждения компании ADVAVAC обладают высочайшей надёжностью, т.к. комплектуются только надежными и проверенными комплектующими всемирно известных фирм: японскими турбомолекулярными или криовакуумными насосами, японскими спиральными насосами, регуляторами расхода газа Alicat Scientific (США, поставщик РРГ для NASA), немецкими вакуумметрами и системой автоматизации, и т.п. При этом, несмотря то, что при их сборке производитель использует самые лучшие комплектующие (которые, как правило, имеют стоимость на 10-20% выше, чем аналогичное вакуумное оборудование конкурентов), вакуумные напылительные системы и установки плазмо-химического осаждения компании ADVAVAC имеют привлекательную цену, примерно на 15-20% ниже по сравнению с ценой конкурентов.

Имея штат подготовленных специалистов и часть комплектующих (вакуумметры, регуляторы расхода газа, магнетроны, клапаны), используемых при производстве вакуумных напылительных установок, на складе, компания АКТАН обеспечивает быстрое и качественное сервисное обслуживание поставляемых нами установок для вакуумного осаждения материалов.

Серия установок VACLEADER – установки с относительно большими камерами (40 см в ширину и более), с возможностью установки нескольких источников напыления, монтажа шлюзовых камер, имеют большой выбор опций.
Особо стоит отметить большие вакуумные напылительные системы для электронно-лучевого испарения серии OPTOVAC, обычно используемые для напыления в оптической промышленности (на зеркала, линзы, стёкла).
Также мы предлагаем несколько вакуумных напылительных установок специального назначения (вакуумное напыление на внешние и внутренние поверхности труб (осаждение алмазных плёнок PECVD методом или магнетронное осаждение), получение поликристаллических алмазных плёнок).

УНИВЕРСАЛЬНАЯ ВАКУУМНАЯ НАПЫЛИТЕЛЬНАЯ УСТАНОВКА VACLEADER
 
ВАКУУМНАЯ УНИВЕРСАЛЬНАЯ АВТОМАТИЧЕСКАЯ СИСТЕМА ДЛЯ НАНЕСЕНИЯ ТОНКИХ ПЛЕНОК VACLEADER. Вакуумная напылительная система VACLEADER позволяет проводить напылением материалов разыми вакуумными методами в одном технологическом процессе. В рабочей вакуумной камере напылительной установки может быть размещено несколько источников напыления разного типа: магнетроны, ионно-лучевые пушки, источники электронно-лучевого и (или) резистивного испарения, источники для напыления OLED. Возможна разная комбинация устанавливаемых источников и их количество.
Вакуумная напылительная система VACLEADER может поставляется с шлюзовой загрузочной камерой, широкой номенклатурой внутрикамерной оснастки и большим количеством дополнительных опций. Напылительная система обеспечивает неравномерность напыления при использовании планетарного механизма <2% для пластин 100 мм и <3% для пластин из разных партий, или неравномерность менее 5% при использовании вращающегося подложкодержателя на одну пластину. Благодаря большому выбору типоразмеров вакуумной рабочей камеры и большому количеству возможных опций...
Далее об универсальных вакуумных напылительных системах VACLEADER
 

 Вакуумная магнетронная напылительная установка VSM-100 (Vacuum Small Magnetron system) использует плазменный разряд постоянного тока для магнетронного напыления тонких плёнок металлов (в частности: Ti, Cr, Au, Mo) или ВЧ плазму (для увеличения количества распыляемых материалов).КОМПАКТНАЯ ВАКУУМНАЯ МАГНЕТРОННАЯ НАПЫЛИТЕЛЬНАЯ УСТАНОВКА VSM-100

Вакуумная магнетронная напылительная установка VSM-100 с 2 или 3 магнетронами, одним блоком питания для последовательного напыления, камерой из нержавеющей стали D-формы шириной 35 см, нагревом вращающегося подложкодержателя и чисткой тлеющим разрядом, откачкой турбомолекулярным насосом, измерение толщины напыляемой плёнки кварцевым датчиком c индикацией значений скорости напыления и толщины плёнки на мониторе, полуавтоматический режим работы – хороший и недорогой выбор для лаборатории.
Данная вакуумная магнетронная напылительная установка позволяет решать большинство задач, которые стоят перед исследовательскими лабораториями, предлагая хороший функционал за небольшие деньги. Замена источника постоянного тока на ВЧ-генератор значительно расширяет количество напыляемых материалов, позволяя напылять не только металлы, но и оксиды металлов.
Далее о компактных вакуумных магнетронных напылительных установках VSM-100

КОМПАКТНАЯ ВАКУУМНАЯ МАГНЕТРОННАЯ НАПЫЛИТЕЛЬНАЯ УСТАНОВКА VSM-200

Вакуумная магнетронная напылительная установка  VSM-200 с 2 или 3 магнетронами, одним или двумя блоками питания (постоянного тока или ВЧ-генераторами) для последовательного и одновременного напыления металлов и неметаллов, камерой из нержавеющей стали D-формы шириной 35 см, нагревом вращающегося подложкодержателяВакуумная магнетронная напылительная установка  VSM-200 с 2 или 3 магнетронами, одним или двумя блоками питания (постоянного тока или ВЧ-генераторами) для последовательного и одновременного напыления металлов и неметаллов, камерой из нержавеющей стали D-формы шириной 35 см, нагревом вращающегося подложкодержателя и чисткой тлеющим разрядом или ВЧ-плазмой, откачкой турбомолекулярным насосом, измерение толщины напыляемой плёнки кварцевым датчиком c регулировкой значений скорости напыления и контроля толщины плёнки с помощью контроллера (графическое отображение толщины плёнки, скорости напыления, девиации скорости напыления, возможность сохранять и многократно воспроизводить сложные рецепты напыления), полуавтоматический режим работы с полностью автоматическим режимом напыления – лучший на сегодняшний день выбор вакуумной магнетронной напылительной установки для лаборатории или мелкосерийного производства с такими большими возможностям, учитывая её недорогую стоимость. Использование источника постоянного тока и ВЧ-генератора значительно расширяет количество напыляемых материалов, позволяя проводить напыление не только металлов, но и оксидов металлов, а установка в напылительной системе двух источников позволит проводить одновременное напыление с двух магнетронов. Полностью автоматический режим напыления с возможностью сохранения большого количества рецептов и плёнок в магнетронной напылительной установке VSM-200 обеспечит высокую повторяемость результатов и качества напыляемых плёнок в мелкосерийном производстве.
Далее о компактных вакуумных магнетронных напылительных системах VSM-200

КОМПАКТНАЯ ВАКУУМНАЯ ЭЛЕКТРОННО-ЛУЧЕВАЯ НАПЫЛИТЕЛЬНАЯ УСТАНОВКА VSE-100

Вакуумная напылительная установка с электронно-лучевым испарителем (на один или несколько испаряемых материалов – для последовательного напыления нескольких плёнок), камерой из нержавеющей стали D-формы шириной 35 см, нагревом вращающегося подложкодержателя, откачкой турбомолекулярным насосом, измерение толщины напыляемой плёнки кварцевым датчиком c регулировкой значений скорости напыления и контроля толщины плёнки с помощью контроллера (графическое отображение толщины плёнки, скорости напыления, девиации скорости напыления, возможность сохранять и многократно воспроизводить сложные рецепты напыления), полуавтоматический режим работы с полностью автоматическим режимом напыления. Полностью автоматический режим напыления с возможностью сохранения большого количества рецептов и плёнок в вакуумной напылительной установке VSЕ-100 обеспечит высокую повторяемость результатов и качества напыляемых плёнок в мелкосерийном производстве.
Далее о компактных вакуумных напылительных установках VSE-100  

КОМПАКТНАЯ ВАКУУМНАЯ НАПЫЛИТЕЛЬНАЯ УСТАНОВКА С РЕЗИСТИВНЫМИ ИСТОЧНИКАМИ ИСПАРЕНИЯ VSR-100

Вакуумная напылительная установка с 1 или 2 резистивными источниками испарения, одним или двумя блоками питания постоянного тока (для одновременного напыления двух материалов), камерой из нержавеющей стали D-формы шириной 35 см, нагревом вращающегося подложкодержателя и чисткой тлеющим разрядом, откачкой турбомолекулярным насосом. Измерение толщины напыляемой плёнки осуществляется кварцевым датчиком c монитором или контроллером. Напылительная установка VSR-100 работает в полуавтоматическом режиме с возможностью проводить процесс напыления в полностью автоматическом режиме. Заслонки между резистивными источниками не допускают взаимного загрязнения испаряемых материалов. Использование монитора измерения толщины позволит наблюдать значения скорости напыления и толщины напыляемой плёнки, заканчивать процесс напыления по достижении заданной величины толщины плёнки или по времени, позволяет сохранить значения 9 плёнок. Полностью автоматический режим напыления с возможностью сохранения большого количества рецептов и плёнок в вакуумной напылительной установке VSR-100 реализуется с помощью использования контроллера измерения толщины вместо монитора измерения толщины плёнок.
Далее о компактных вакуумных напылительных установках VSR-100

ПОЛУАВТОМАТИЧЕСКАЯ ВАКУУМНАЯ НАПЫЛИТЕЛЬНАЯ УСТАНОВКА ИОННО-ЛУЧЕВОГО НАПЫЛЕНИЯ И ТРАВЛЕНИЯ С ИОННЫМ АССИСТИРОВАННИЕМ ПРОЦЕССУ НАПЫЛЕНИЯ.
Ионно-лучевое напыление позволяет получать наиболее чистые плёнки по сравнению с другими методами вакуумного напыления, при этом процесс напыления прецизионно управляем. Поставляемая нами вакуумная напылительная установка ионно-лучевого напыления выполнена на базе вакуумной напылительной установки VSM, при этом изготавливается в двух вариантах: (1) с импортными ионными источниками или (2) с отечественными ионными источниками. Данное решение принято специалистами нашей компании исходя из того факта, что стоимость отечественных ионных источников более чем в два раза ниже по сравнению с импортными. Учитывая, что стоимость импортных ионных источников достаточно высокая, и часто превышает стоимость всей остальной системы (вакуумной камеры, ТМН, форнасоса, измерителя толщины плёнок и т.п.), то значительное уменьшение стоимости данного узла позволяет сильно уменьшить стоимость всей напылительной установки при сохранении основных рабочих параметров.
Далее о вакуумных напылительных системах ионно-лучевого напыления

 

ВАКУУМНАЯ НАПЫЛИТЕЛЬНАЯ УСТАНОВКА OPTOVAC-E2000 С ЭЛЕКТРОННО-ЛУЧЕВЫМ ИСПАРЕНИЕМ ДЛЯ НАНЕСЕНИЯ ОПТИЧЕСКИХ ПОКРЫТИЙ.
Нанесение оптических покрытий предъявляет свои требования к вакуумным напылительным установкам. Как правило, это нанесение на большое количество подложек (т.е. большая камера), высокая производительность откачки (т.е. откачка криовакуумным насосом большой производительности), высокая равномерность нанесения покрытия (планетарное вращение подложек), использование электронно-лучевых испарителей и т.д. Всем этим требованиям удовлетворяет вакуумная напылительная установка OPTOVAC-E2000 – привлекательное по цене решение Ваших задач по напылению оптических покрытий.
Далее о вакуумных напылительных системах нанесения оптических покрытий

 

Универсальная система плазменно-стимулированного осаждения из газовой фазы (или система осаждения из газовой фазы в плазменном разряде (PECVD)) с нагревом в ВЧ или СВЧ поле (модель UNIV6-PECVD) предназначена для выращивания монокристаллов и различных типов плёнок (поликристаллических или монокристаллических).АВТОМАТИЧЕСКАЯ УНИВЕРСАЛЬНАЯ ВАКУУМНАЯ УСТАНОВКА ПЛАЗМЕННО-СТИМУЛИРОВАННОГО ОСАЖДЕНИЯ UNIV6-PECVD
Универсальная система плазменно-стимулированного осаждения из газовой фазы (или система осаждения из газовой фазы в плазменном разряде (PECVD)) с нагревом в ВЧ или СВЧ поле (модель UNIV6-PECVD) предназначена для выращивания монокристаллов и различных типов плёнок (поликристаллических или монокристаллических). Несмотря на то, что система производится в Канаде и США, и изготовлена из комплектующих ведущих американских и европейских производителей, она имеет привлекательную цену и может составить конкуренцию многим отечественным разработкам и производителям аналогичных PECVD-систем. Универсальная система плазменно-стимулированного осаждения из газовой фазы UNIV6-PECVD предлагает исследователям и разработчикам микро- и наноструктур наиболее широкий диапазон возможностей из предлагаемых сегодня на рынке систем плазмо-химического осаждения из газовой фазы
Далее о вакуумных системах плазменно-стимулированного осаждения

Если среди вышеописанных PVD или CVD систем Вы не нашли ту, которая наиболее полно решала бы стоящие перед Вами задачи, то, пожалуйста, обратитесь к нашим специалистам, и под заказ, под требования заказчика будет изготовлена система, в которой будут учтены все Ваши пожелания. Для отправки запроса нажмите «ЗАПРОС» в меню.

 


  Многоканальный ТЕЛ./ФАКС:
 
    +7(495) 228 0975
   
Copyright © 2004-2011 АКТАН  
Использование материалов сайта без разрешения ООО«АКТАН» не допускается.
Rambler's Top100