IB-COATER-2000 Система распыления (и травления) мишени ионным пучком и напыления с ассистированием ионным пучком.

IB-COATER-2000 – система распыления (и травления) мишени ионным пучком и напыления с ассистированием ионным пучком. Уступая в скорости напыления перед магнетронным и электронно-лучевым методами напыления, распыление мишени ионным пучком позволяет получить наиболее чистые плёнки, что важно для многих областей научных исследований. Система ионно-пучкового напыления IB-Coater проектировалась с учётом всех требований, предъявляемых к вакуумным системам данного типа. Система распыления (и травления) мишени ионным пучком и напыления с ассистированием ионным пучком обладает высокой гибкостью в конфигурировании и предлагает большой выбор опций.

Установка изготавливается в двух вариантах:

■ Бюджетная с кнопочным управлением
■ Полностью автоматическая, с возможностью сохранения рецептов и параметров работы установки

Преимущества ионно-лучевого напыления:
■ более высокая энергия напыляемых ионов по сравнению с энергией атомов при магнетронном напылении приводит к образованию плёнки с большей плотностью
■ более низкое рабочее давление (глубина вакуума ниже 10^-4 торр) приводит к более высокой чистоте напыляемой плёнки
■ возможность управлять энергией и плотностью ионного пучка позволяет контролировать микроструктуру, стехиометрический состав и уровень напряжения плёнки
■ стабильная скорость роста плёнки – превосходное управление ростом плёнки, стабильность процесса напыления, высокая равномерность и однородность характеристик

Ионно-лучевое напыление совместимо со следующими материалами:
• диэлектрики SiO₂,Ta₂O₅,Al₂O₃,TiO₂, Si₃N₄,и т.д.
• металлы W, Au, Cu, Pt, NiFe, CrCo, Si, и т.д.  

Преимущества системы ионно-лучевого распыления (травления и напыления) IB-COATER-2000: 
■ Ионно-лучевое нанесения материалов и напыление с ассистированием ионным пучком
   • высокая плотность напыляемых плёнок
   • высокая стабильность параметров техпроцесса
   • стабильная скорость роста плёнки
   • управление стехиометрией материала плёнки
   • последовательное напыление нескольких материалов в одном процессе
■ Ионно-лучевого травление и реактивное ионно-лучевого травление
   • высокая равномерность травления
■ Широкий спектр предлагаемых опций
   • разный размер камер (определяется требуемой производительностью системы)
   • возможность установки шлюза для сверхчистых процессов
   • источники ионных пучков разной апертуры, силы тока
   • различная оснастка для подложек
   • RGA
   • автоматизация процесса  

Ионно-лучевое травление  совместимо со следующими материалами:
   • диэлектрики Si, SiO₂, диэлектрики ₂O₃, полиамид, и т.д.
   • металлы Au, Cu, NiFe, Al, и т.д.  

 
Если среди вышеописанных PVD или CVD систем Вы не нашли ту, которая наиболее полно решала бы стоящие перед Вами задачи, то, пожалуйста, обратитесь к нашим специалистам, и под заказ, под требования заказчика будет изготовлена система, в которой будут учтены все Ваши пожелания. Для отправки запроса нажмите «ЗАПРОС» в меню.