|
Компания АКТАН
ВАКУУМ поставляет бессеточные ионные источники END-HALL серии EН.
Ионные источники (ИИ) серии еН будут идеальным выбором, где требуется высокая плотность ионного пучка и небольшие энергии ионов в пучке. Высокая плотность пучка обеспечит качественное ионное ассистирование даже в процессах с высокой скоростью вакуумного напыления, в то время как низкая энергетичность ионов исключит разрушение подложки или напыляемого слоя.
 Компактные ионные источники (или как их ещё иногда называют: ионные пушки) серии еН, генерирующие расходящийся пучок ионов, выпускаются в большом диапазоне размеров, что позволяет их использовать как в научных исследованиях, так и в системах для серийного производства.
Большое значение силы тока ионного пучка удовлетворяет самым критичным приложениям с большими скоростями нанесения тонких плёнок в вакууме. Низкая энергия ионов позволяет оптимальным образом осуществлять ассистирование процессу напыления, не разрушая или как-то негативно влияя на напыляемую плёнку. Большая расходимость пучка обеспечивает высокую равномерность покрытия ионным пучком напыляемой зоны.
 Ионные источники серии еН компании Кауфман-энд-Робнисон благодаря своей низкоэнергетичности и высокой плотности находят применение во многих
областях, связанных с вакуумным напылением или обработкой поверхности в вакууме, например:
- Ионно-лучевое ассистирование процессу вакуумного напыления
- Чистка и активирование напыляемой подложки перед процессом вакуумного напыления
- Низкоэнергетичное травление ионным пучком
- Модификация свойств поверхности
- Ионное осаждение по подложку со смещением потенциала
Все модели ионных источников серии еН имеют запатентованный модульный анод. Проста демонтажа и монтажа анодного блока значительно упрощает его сервисное обслуживание.
Ионные источники серии еН могут работать со следующими газами: Ar, O2, N2, H2, органические прекурсоры, иные газы (если вы собираетесь работать с каким-то редким газом, перед покупкой ионного источника вначале свяжитесь с нами).
| Характеристики
ионных источников серии еН |
eH200
|
eH400
eH400LE |
eH1000 eH1000LE
eH1000LO
|
eH1000xO2
(оптимизирован для работы с кислородом)
|
eH2000
eH2000LE eH2000LO
|
eH3000
eH3000LO eH3000MO |
Тип катода (нейтрализатора)
НН – нить накала
ПК – полый катод
|
НН или ПК
|
НН или ПК |
НН или ПК |
НН или ПК |
НН или ПК
ПК
ПК |
ПК |
| Ø разрядной камеры |
~ 2 см |
~ 4 см |
|
|
|
|
| Высота ионного источника |
2.0” |
3.0” |
4.0” |
4.0” |
4.0” |
6.0” |
| Диаметр ионного источника |
2.5” |
3.7” |
5.7” |
5.7” |
5.7” |
9.7” |
| Угол расходимости пучка ИИ |
> 45º |
> 45º |
> 45º |
> 45º |
> 45º |
> 45º |
| Напряжение в разрядной камере ионного источника |
30 – 300 В
|
50-300 В
30 – 150 В |
50-300 В
30 – 150 В
50 – 300 В |
100-300 В |
50-300 В
30 – 150 В
50 – 250 В |
50-250 В
50-300 В
50-250 В |
| Ток в разрядкой камере ионного источника |
2А
|
5 А
10 А |
10A
12A
5A |
10 А |
10A
15A
15A |
20A
10A
15A |
| Типичные значения потока, ст. см3/мин |
1 - 15 |
2 - 25 |
2 - 50 |
2 - 50 |
2 - 75 |
5 - 100 |
| Водяное охлаждение |
нет |
опционно |
опционно |
опционно |
да |
опционно |
При заказе ионного источника учтите режим его работы. По умолчанию ионные источники поставляются без водяного охлаждения (кроме еН2000). Если планируется длительная работа ионного источника в вакуумной камере, в которой присутствует повышенное тепловое излучение (от источников испарения или от нагревательных элементов), рекомендуется устанавливать ионный источник с водяным охлаждением анода.
 Также для некоторых приложений рекомендуется использовать более дорогой нейтрализатор на базе полого катода, а не на базе нити накала.
Так как в полом катоде нет нити накаливания, которая находится на пути или рядом с распространением ионного пучка, ионный пучок, нейтрализация которого происходит с помощью полого катода, будет более чистым (хотя нужно понимать, что даже в случае с нитью накала речь идёт о загрязнении пучка в миллионные доли
грамма в час). Чистка ионным источником с любым нейтрализатором – на порядки более чистый процесс по сравнению с чисткой подложки плазмой тлеющего разряда или ВЧ плазмой.
|
Преимущества ионных источников серии еН:
• Вынимаемый анодный модуль с целью удобного обслуживания
• Анодный модуль самоцентрируется при
установке, что значительно облегчает его установку после сервисного обслуживания
• Профиль анода спроектирован для
наиболее оптимального горения плазменного разряда
• Термически изолированная магнитная
система
• Усовершенствованная система
распределения газа
• Экранированные изоляторы значительно увеличивают время между сервисным обслуживанием ионного источника
|
 |
Встроенный электронный эмиттер на базе нити накаливания
(
(опционно – эмиттер на базе полого катода)
|
| Модульный анод
(анод и газовая система) |
| Основной модуль. Включает магнитную систему, электрические и газовые вводы
|
| Кронштейн для регулировки угла наклона ионного источника (опционно) |
 Бессеточные ионные источники серии еН имеют более привлекательную цену по сравнению с сеточными ионными источниками, надёжны в работе, просты в обслуживании.
Для консультаций по поводу правильного выбора ионного источника для своего приложения пожалуйста обратитесь к нашим специалистам.
|
|
2015-2020 
