|
Компания АКТАН ВАКУУМ поставляет сеточные ионные источники серии RFICP
Компания Kaufman & Robinson предлагает линейку сеточных ионных источников с удержанием плазмы ВЧ индукцией (RFICP). Продукты RFICP разработаны на основе самой инновационной технологии сеточных ионных источников. Инновации, такие как удерживание плазмы ВЧ индукцией без использования нитевого накала и самовыравниваемая ионная оптика, доказали свои преимущества. Не имея нить накала в плазменной камере продукты RFICP хорошо подходят для работы в таких установках, в которых могут происходить выбросы химически активных газов и проводиться длительные процессы обработки.
Источники серии RFICP поставляются в виде полностью законченного комплекта. Этот комплект включает компоненты, необходимые для установки и работы источников RFICP, в том числе ионный источник RFICP с удержанием плазмы ВЧ индукцией, специализированную для определенных приложений ионную оптику, нейтрализатор – источник электронов, контроллер электропитания, проходные вакуумные патрубки и кабели.
Продукты серии RFICP используются во всем мире в ведущих научных исследованиях и промышленном производстве оптических, световых, магнитных и микроэлектронных устройств. Комплекты продуктов RFICP сконфигурированы для удовлетворения требований различных технологий. Эти комплекты могут быть установлены в различные вакуумные системы, такие как небольшие многоцелевые НИОКР системы, установки для планетарного нанесения или травления, объемного вакуумного напыления, шлюзовые модули кластерного типа и прочее.
Продукты серии RFICP применяются как в широко известных, так и в еще разрабатываемых процессах обработки материалов. Возможность образовывать и контролировать ионы различных видов с заданной энергией, химической активностью, плотностью тока и траекторией движения делает продукты RFICP эффективными инструментами для обработки пленок и поверхностей. Будь то уплотнение, оптическая передача, критическая однородность размеров, гладкие границы, улучшение адгезии или вертикальные боковые стенки структур – везде продукты серии RFICP помогут получить выигрышные свойства материала. Как правило, продукты этой серии используются в следующих вакуумных процессах:
• Ионно-лучевое ассистирование при термическом и электронно-лучевом напылении (Ion beam assisted deposition – IBAD)
• Предварительная очистка и активация поверхности (preclean – PC)
• Модификация поверхностей (Surface modification – SM)
• Непосредственное нанесение тонких пленок (Direct deposition – DD)
• Нанесение методом ионно-лучевого распыления одно- и многослойных структур (Ion beam sputter deposition – IBSD)
• Ионное травление элементов поверхности в любых материалах (Ion beam etching – IBE)
• Очистка, доводка и придание формы прецизионным деталям с помощью ионного пучка (Ion beam trimming, tuning and figuring – IBE)
| Модель сеточного ионного источника |
RFICP40 |
RFICP100 |
RFICP140 |
RFICP220 |
| Метод генерации ионов |
Удерживание плазмы ВЧ индукцией |
| Высота
(номинал) |
5.0" |
9.25" |
9.8" |
11.8" |
| Диаметр
(номинал) |
5.3" |
7.52" |
9.8" |
16.1" |
| Размер пучка у сетки
(типовой) |
4 см |
10 см |
14 см |
22 см |
| Формы пучка |
Фокусированный,
коллимированный,
расфокусированный |
| Обрабатываемые материалы |
Металлы,
диэлектрики,
полупроводники |
| Рабочие газы |
Инертные,
активные,
смеси |
| Установка (типовая) |
6-18" |
6-24" |
8-36" |
8-45" |
Применение
(типовое) |
PC,
SM,
IBAD,
IBE,
IBSD |
|
|
2015-2020 
